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博大app游戏平台是一家以纳米级表面成膜和刻蚀技术为核心的企业，面向量子科学，先进材料，半导体，超导等领域为客户提供专业的技术解决方案，帮助客户更高效的推动技术的探索与发展，公司形成以UHV超高真空镀膜装备，ALD原子层镀膜系统、半导体专用镀膜设备为核心的产品矩阵，助力中国的高科技技术和产业的发展。博大app游戏平台于2018年在厦门集美博大app游戏平台，由美国斯坦福博士以及在美国硅谷专业从事高端装备制造的海归团队组成，是一家创新型高端纳米装备制造技术企业，专门为泛半导体及新能源提供先进的纳米材料制造装...

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分子层沉积是开启纳米科技的新时代
2023-08-01

随着科学技术的不断发展，纳米科技正日益成为当今世界的研究热点。在纳米尺度下，材料的性质和行为与宏观尺度有着显著的差异，这使得纳米科技在诸多领域具有广泛的应用前景。而分子层沉积作为一种精确控制薄膜生长的技术，正在推动纳米科技迈向一个崭新的时代。分子层沉积是一种化学气相沉积技术，它通过反复交替地在基底表面上加入两种或多种可反应物质，形成一层层分子堆积的薄膜结构。这些可反应物质通常是挥发性的有机或无机配体，其选择取决于所需薄膜的化学组成。这种技术的关键在于在每一步反应之后都要进行表...
电子束蒸发镀膜的过程包括哪几个关键步骤？
2023-07-11

电子束蒸发镀膜是一种物理气相沉积（PVD）技术，用于在基底材料上生长薄膜。它利用高能电子束来蒸发源材料，使其从固态直接转变为气态，然后在基底上沉积形成薄膜。这种技术具有较高的沉积速率和较好的薄膜质量，可实现低温沉积和高精度控制。电子束蒸发镀膜技术具有几个优势。它可以实现高纯度材料的沉积，因为源材料在蒸发过程中不会与其他物质发生反应。该技术可实现较高的沉积速率和良好的薄膜均匀性，从而提高生产效率和产品品质。具有较高的沉积温度控制能力，适用于对基底材料有温度敏感性要求的应用。该技...
超高真空镀膜设备的特点和广泛的应用
2023-07-04

超高真空镀膜设备是一种先进的技术装备，用于在材料表面形成薄膜。它具有广泛的应用领域，包括光学、电子、航空航天等行业。超高真空镀膜设备的工作原理基于真空环境下的物理气相沉积原理。它通常由真空腔体、加热源、镀膜源和控制系统等组成。首先，将待镀物放置在真空腔体中，通过抽取内部空气实现超高真空环境的建立。然后，加热源提供热能，使镀膜源中的材料升温并蒸发。蒸发的材料沉积在待镀物的表面，形成均匀且致密的薄膜。具有许多特点：超高真空环境可消除气体和杂质对薄膜质量的影响，确保薄膜的纯净性。设...

技术文章 article

粉末原子层沉积具有怎样的优点？
2023-08-04

粉末原子层沉积是一种薄膜制备技术。与传统的原子层沉积（ALD）相比，利用粉末作为反应物源，实现了更高的生长速率和更大尺寸的薄膜覆盖面积。在过去的几年里，已经成为材料科学和工程领域的研究热点，并在微电子、能源存储、光电子等领域展示出巨大的潜力。粉末原子层沉积通过交替地引入气体与粉末进行表面反应，将它的概念扩展到固体颗粒上。先在基材表面形成一个导电或非导电的种子层，然后将粉末在该种子层上均匀地分布。接下来，通过向反应室中引入适当的气体，与粉末表面发生化学反应，使其在每个原子层上生...
关于真空蒸发镀膜如何形成优质薄膜
2023-07-21

真空蒸镀是将固体材料（简称蒸镀材料）在高真空环境中加热，沉积在特定基板上，得到薄膜的过程。真空蒸镀工艺主要用于微电子制造有源元件、器件触点和金属互连件、高精度低温度系数薄膜电阻器，以及薄膜电容器的绝缘介质和电极。真空蒸发镀膜通过真空蒸发工艺形成各种薄膜是集成电路制造的一项重要技术。可以通过真空蒸发沉积多种材料，例如导电材料、介电材料、磁性材料和半导体材料。影响薄膜质量的关键过程在真空蒸发过程中，系统的真空度直接影响薄膜的质量。为了将蒸发原子或分子沉积在离蒸发源一定距离的基板上...
桌面式原子层沉积系统的关键特点体现在哪些方面？
2023-07-14

桌面式原子层沉积系统是一种精密的薄膜制备设备，具有广泛的应用领域和重要的科学研究价值。桌面式原子层沉积系统是一种用于薄膜沉积的技术。它采用了原子层沉积（ALD）的工艺，在纳米尺度上控制薄膜的成分和厚度。该系统由一个真空腔室、多个进样阀和反应室组成。在ALD过程中，材料的前驱体交替地注入到反应室中，通过化学反应使得物质以原子或分子层的形式沉积在衬底表面上。这种逐层生长的方法可以实现较高的薄膜均匀性、控制薄膜的厚度和成分，从而得到高品质的薄膜材料。该系统具有以下关键特点。1、具有...